化工技术绝技,化工技术绝技有哪些

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于化工技术绝技的问题，于是小编就整理了2个相关介绍化工技术绝技的解答，让我们一起看看吧。

1. 中国能卡世界脖子的技术有哪些？
2. 光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

中国能卡世界脖子的技术有哪些？

1、广场舞。在中国只要有人的地方就有广场舞，一到晚上各位阿姨大妈甚至美女就开始了。

只需要一台音响，一位领舞者，后面很快就会有一大群粉丝跟着震耳欲聋的音乐扭动身姿。

很多时候，一个广场会有几班广场舞爱好者。

不论技术还是场面，还是号召力，给西方一百年的时间，也够呛超越我们了。

2、***。中国人对***的热爱与狂热经久不衰，甚至会出现两口子比着玩，看谁去接孩子放学的问题。

一些热心***迷们，能一做一天都没事，饭不吃多可以的。

经过几十年的发展，我们掌握了一些独门技术，先进技术。但要说能卡世界脖子的技术，也就是没了它满世界都要窒息的技术，恐怕还没有。对一个产业举足轻重、无可替代的技术我们还在开发中。

光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

芯片产业大体上可以由上、中、下游三个产业链来囊括，上游指的是芯片的研发设备公司，苹果、华为、高通等公司是典型的代表；中游指的是芯片生产类的公司，下游指的是封测和组装公司。光刻机的生产公司属于中游，其中比较著名的就是荷兰的ASML公司，几乎垄断了光刻机市场80%的份额。

那么，光刻机技术究竟有哪些难点，为何ASML公司能够一家独大？我国当前有哪些制造光刻机的公司呢？

制造光刻机的技术难点

我们先来简单的了解一下光刻机工作的技术原理。当我们制作芯片的时候，电路图经过光刻机投放至底片（涂满光刻胶的硅片），光刻机不断蚀刻掉光刻胶，露出硅面之后做化学处理，不断反复的蚀刻，直到芯片制作完成。

这里面有两点要求较高，一个是光刻机的中心镜头，一个是光刻机的光源。

大家应该知道，ASML公司光刻机的镜头来自德国蔡司，光源由美国CYMER公司独家提供。光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，需要高纯度透光以及高抛光，能够达到这一标准的公司并不多（光刻机工艺制程越高，要求也就越高）。镜头的打磨对于匠人的技术要求等级较高，并非是工业化能够解决的问题，需要十几年甚至是上百年的技术沉淀。光刻机光刻机，对于光源的要求更是重中之重，需要体积小、功率高、稳定性强的光源（这也是制约我国光刻机向高端进军继续解决的难题）。

除此之外，光刻机的工作台、侵液系统的技术难点依然较高。

国内能够制造光刻机的公司

感谢您的阅读！

我们被卡住了脖子，而荷兰的ASML似乎一直在“戏耍”我们。用“失火”延期交付，后又传美国从中作梗，不发放的极紫外光光刻机（EUV）销售许可证，所以，导致了ASML压力过大，将交给中芯国际的极紫外光刻机（EUV）一推再推。

在《瓦森纳协定》中，1334号法令共8章22条，规定了出口控制的范围，其中半导体就属于禁止出口的一种。

所以，在这种协定的压力下，我们一直不能够获得最新的技术，包括的就有荷兰ASML的光刻机，也属于限定的范围。

时至今日，我们的光刻机为上海微电子的90nm光刻机，而中芯国际和华虹目前量产了14nm工艺制程的光刻机，但是7nm以下必须用EUV。

那么，到底为什么中国的光刻机发展不起来呢？到底难点在什么地方呢？实际上，根据光源和发展前后，我们将光刻机依次可分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV），光源的波长影响光刻机的工艺。

实际上，光刻机的难度是因为技术，从EUV光线的能量、制程的所有零件、材料，都在不断的挑战人类极限。

在光刻系统中的，如果想达到更好的工艺，更高端的技术，就必须***用***的多重曝光（Multiple Patterning，MP），而且成本更高一些。

虽然说现在限于技术，以及协议等等，都会影响光刻机的发展，但是，我们必须要知道，最近我国武汉光电国家研究中心成功研发出9nm线宽双光束超衍射极限光刻试验样机，一旦这种情况得以突破，未来我国将会走出一条不一样的路，打破这种禁锢！

    光刻机的难点是“技术封锁”，光刻机的关键部件来自不同的发达国家，美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等，关键是这些顶级零件对我国是禁运的。我国的中芯国际早在2017年就预订了一台ASML的7nm制程工艺的光刻机，由于很多原因，至今仍未收到货，可以说“有钱也买不到”。

    目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML，占据了全球80%的市场份额，而最先进的EUV光刻机只有ASML能够生产，光刻机的技术门槛极高，是人类智慧大成的产物。

    ASML光刻机90%的零件来自对外采购，德国的光学设备，美国的计量设备和光源设备，而ASML要做的就是精确控制，7nm EUV光刻机有13个系统，3万个部件，动作要非常精准，将误差分散到这13个分系统中。

    ASM还有一个非常奇特的规定，只有投资了ASML，才能获得优先供货权，也就是说自己的客户需要先投资自己才行，这种合作模式ASML获得了大量的资金，英特尔、三星、台积电、海力士在ASML都有可观的股份。因此，光刻机本来就供不应求，ASML未来几十年的订单早已被预约完了。

    西方有个《瓦森纳协定》 ，我国只能买到ASML的中低端产品，出价再高，也很难买到高端设备。

    中芯国际早在2017年就预订了ASML最新的7nm制程工艺的光刻机，先是由于失火，导致订单后延，然后是因为美国方面的干扰，搬出了《瓦森纳协定》阻挠ASML向我国出售最先进的光刻机。

想知道光刻机的制造难点在哪里，还得从芯片的制造过程说起!芯片的制造的大概过程是:芯片设计，晶片制作，封装制作，测试。而最难的步骤就是晶片制作，这个过程就需要先进的光刻机了。但是呢，紫外光源又分为极紫外EUV，深紫外DUV，紫外UV，可见光。从上到下波长依次增大！由此可知，极紫外光EUV的波长最短，所以说使用极紫外光EUV做为“刻刀”的光刻机分辨率极高，所以才能有7nm，5nm制程的芯片出现。

而光刻机主要是由测量台，曝光台，激光器，光束矫正器，能量控制器，遮光器，能量探测器，掩膜台，物镜等组成。即便是阿斯麦制造的光刻机，也是***购德国的蔡司公司的镜头，美国Cymer公司的光源。可以这样说，阿斯麦制造的光刻机是集全世界的先进技术于一体。此外，对于一些特殊的接口，需要用极其精密的仪器打磨，调试上百万次。

首先来说，光刻机需要的镜头误差必须控制在纳米级别，而能够制造出这种镜头的国家是凤毛麟角，德国的蔡司公司就可以制造出这样的镜头。还有比较重要的光源发出器极紫外光EUV，这个晶体也是难以制造的。此外就是机械部分，驱动机械，转轴机械部分都需要极高的精细度，制造这些机械设备就需要超精密机床，而机床则掌握在德日等国的手中。还有就是整个控制系统软件的编写，这个难度也比较大。如何防止光刻区的产生电磁辐射等等。由此可知，想要一个公司，不依靠外援全部搞定以上这些超精密仪器，那难度可想而知。别说一个公司了，就算一个国家也难以搞定。毕竟光刻机涉及的领域太多了，50000多个超精密部件根本就不是一个国家所能解决的。

其实光刻机需要的光学镜头的制造难度就比较大，需要高质量的合成石英玻璃，别小看这块玻璃，制造这块玻璃需要去应力，去气泡条纹，提纯度等。另外就是超高球面型精度镜片的[_a***_]，必须要保证加工精度。

还有就是必须的发光晶体。事实上，关于KBBF晶体，我国则是领先世界的，估计是不缺乏这个部件的。那么，我国光刻机应该就是被像镜头，软件系统，机械部件拦住了。

而我国也具备制造光刻机的实力，只不过制程工艺不如阿斯麦的光刻机。我国是由上海微电子研制的14nm制程的光刻机，目前已经经过专家的验收和测试了。而武汉光电所已经研制出9nm制程的光刻机了，我国光刻机技术只会与国际先进水平越来越近，总有超越的一天。

到此，以上就是小编对于化工技术绝技的问题就介绍到这了，希望介绍关于化工技术绝技的2点解答对大家有用。