大家好,今天小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于化工产品EDA的问题,于是小编就整理了2个相关介绍化工产品EDA的解答,让我们一起看看吧。
山东石油化工学院位于山东省东营市。是教育部批准设立的全日制本科层次公办普通高等学校,2021年1月25日,由中国石油大学胜利学院转设为山东石油化工学院,由山东省负责领导和管理。学校定位于应用型高等学校,主要培养区域经济社会发展所需要的高素质应用型、技术技能型人才。
省级特色专业:化学工程与工艺、电气工程及其自动化,省级一流本科课程:西方经济学、数据结构与算法、英语语法、EDA仿真与电子系统设计、大学生极简经济学。
ASML在光刻机领域如雷贯耳,占有大部分的光刻机市场。目前大部分的半导体厂商都离不开ASML的光刻机,比如英特尔、三星、海力士、中芯国际、台积电等等。光刻机是推动摩尔定律的最关键设备,可以说ASML生产的高端光刻机推动着闪存、CPU等技术的进步。
ASML(Advanced Semiconductor Materials Lithography Holding N.V.),中文译名为阿斯麦。在1984年以前,ASML前身为ASMI,是荷兰一家半导体上市设备生产商。1***1年,飞利浦开始开发光刻设备,那个时候光刻机竞争激烈,日本、美国、德国设备占据市场,虽然飞利浦也成功推出自己的设备,但是由于市场残酷,飞利浦取消了这个研发部门。这时候ASMI找上飞利浦,寻求合作,最终合作成立了ASML。ASML经过不断发展,注重研发投入,在2000时推出TWINSCAN光刻机,奠定其霸主地位。目前在光刻机市场,ASML已经远远领先传统的光学巨头NIKON以及CANON。
我们都知道,半导体行业其实是重资产、技术密集型型产业,当然目前也是劳动密集型。ASML其实本身也并非一个闭环企业,它的光学器件比如镜头来自于卡尔蔡司,计量设备来自于美国是德科技。光刻机的生产、技术革新是技术含量极高的,也是需要大量资金投入的,每一个部件的进步都会带来技术革新。当然这些进步都离不开资金投入,以及产业链之间的合作。ASML实行的是一种轻资产战略,把控主要核心技术,并不是全产业链都设计,这样并不适合其核心业务的发展。虽然ASML没有涉足下游半导体芯片业务,但是英特尔、三星以及台积电三大巨头可是入股了ASML并有23%的股份,这给了ASML巨大的才力支持,这显然要比直接涉足传统半导体行业要更加稳妥,更有利于ASML核心业务的发展。
ASML虽然厉害,但是还是对我国有技术封锁,国内半导体生产商很难买到其最先进的光刻机。当然了,这里也要顺便说一下我国的光刻机技术,目前上海微电子已经可以自主生产光刻机了,而且在EUV光源方面取的极大进步。虽然与ASML有很大技术差距,但是未来是非常光明的。
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闻道有先后,术业有专攻。再加上光刻机和芯片所处领域的技术门槛非常高,一家企业要想完全掌握两个尖端科技,难度是非常非常大的。
这种尖端科技跟我们现在看到的互联网行业里天天嚷嚷着的生态布局是不同层次的技术。现在互联网巨头们的生态是建立在流量基础上的,反正都是服务这些上网的用户,可以顺便给他们提供一些其他需求的产品。
而像光刻机和芯片这样的高端科技则不同,生意模式不同,目标客户也不同,他们是典型的to B ,光刻机的目标市场是芯片生产商,而芯片生产商的目标市场是电子设备厂商,这是一个产业链条,而不是平行共享。
不是ASML不想做,而是当ASML有能力做的时候,芯片代工市场的格局就已经确定了:台积电,罗格方德,三星,联华电子等几大巨头。
这几大巨头不单单把持住了下游的:AMD,英特尔,NIVIDA,意法半导体这类国际芯片巨头,更重要是他们也入股了上游的各类设备商,包括ASML。
ASML的强盛,要追溯到20年前。2001年,ASML在新推出TWINSCAN系统的帮助下,在130nm,90nm工艺制程上面,直接超越了NIKON(日本尼康),佳能(CANON)。
1***8年——2000年,是尼康的光刻机时代,这时候的光刻机主要是依靠光源的波长类提高工艺
1***8年—2000年光刻机发展
这个时候的光刻机,一直***用的方式是降低光源波长,从436nm——248nm,到190nm。200年前后,各家厂商都在研究从190nm波长向更低波长转变的方法。
率先实现突破的是ASML,起到核心作用的是台积电的林本坚博士(芯片代工厂的研发人员),林本坚提出的将光源和硅片之间的介质从空气变成液体(例如纯水),水有折射,折射率为1.3,这就是直接将190nm波长的光源变成了132nm。
这个技术由台积电的帮助,包括后续的实验和测试。ASML一次实现了成功。
2001年至今的光刻机发展
到此,以上就是小编对于化工产品EDA的问题就介绍到这了,希望介绍关于化工产品EDA的2点解答对大家有用。
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